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    行業資訊

    硬鉻電鍍工藝操作條件

    文字:[大][中][小] 手機頁面二維碼 2016/6/28     瀏覽次數:    


      操作條件

    鍍液組成及工藝條件
    標準開缸
    適用范圍
    鉻酐
    240克/升
    225-275克/升
    純硫酸
    2.7克/升
    2.5-4.0克/升
    RC-25K開缸劑
    20毫升/升
    10-30毫升/升
    陰極電流密度
    60安培/平方分米
    30-75安培/平方分米
    陽極電流密度
    30安培/平方分米
    15-35安培/平方分米
    工作溫度
    58℃
    50-60℃

      設備要求

      鍍槽:硬聚氯乙烯板或鋼槽內襯軟聚氯乙烯均可,槽邊應有抽風設備;

      整流器:要有足夠的容量與鍍槽配套,波紋系數小于5%,電壓不小于15V;

      陽極:使用的陽極為鉛錫合金(錫:7%)或鉛銻合金,輔助及象形陽極亦應采用鉛錫或鉛銻合金;

      加熱器:選用鈦、鉛或聚四氯乙烯材料;

      冷卻管:選用鈦或鉛材料;

      過濾泵:過濾泵的材料宜采用不銹鋼或適當的耐鉻酸塑料。


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